发明名称 |
水处理方法以及水处理系统 |
摘要 |
本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(200)以及水处理方法中,在向包含Ca离子、SO<sub>4</sub>离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂后,被处理水在第二脱盐部(210)被分离为浓缩有Ca离子、SO<sub>4</sub>离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第二析晶部(220)中向第二浓缩水供给石膏的晶种,从而石膏析晶而从第二浓缩水中被去除。 |
申请公布号 |
CN105358491A |
申请公布日期 |
2016.02.24 |
申请号 |
CN201480037969.4 |
申请日期 |
2014.05.30 |
申请人 |
三菱重工业株式会社 |
发明人 |
江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 |
分类号 |
C02F9/00(2006.01)I;B01D9/02(2006.01)I;B01D19/00(2006.01)I;B01D61/08(2006.01)I;B01D61/42(2006.01)I;B01D61/58(2006.01)I;C02F1/20(2006.01)I;C02F1/42(2006.01)I;C02F1/44(2006.01)I;C02F1/469(2006.01)I;C02F1/52(2006.01)I;C02F5/00(2006.01)I;C02F5/10(2006.01)I;C02F5/14(2006.01)I |
主分类号 |
C02F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
雒运朴 |
主权项 |
一种水处理方法,其包括如下的工序:水垢防止剂供给工序,在该水垢防止剂供给工序中,向包含Ca离子、SO<sub>4</sub>离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给钙水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂,所述钙水垢防止剂是防止包含钙的水垢析出的水垢防止剂,所述二氧化硅水垢防止剂是防止所述二氧化硅析出的水垢防止剂;脱盐工序,该脱盐工序在所述水垢防止剂供给工序之后,将所述被处理水分离为浓缩水与处理水,所述浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO<sub>4</sub>离子、所述碳酸离子以及所述二氧化硅;以及析晶工序,在该析晶工序中,向所述浓缩水供给石膏的晶种,从而石膏从所述浓缩水中析晶。 |
地址 |
日本东京 |