| 摘要 |
기판 처리 장치 (1) 는, 회전대 (7) 와, 회전 구동 기구 (3) 와, 회전대 (7) 에 형성된 유지 핀 (10) 과, 기판 (W) 의 하면을 덮기 위한 보호 디스크 (15) 와, 보호 디스크 (15) 를 회전대 (7) 로부터 부상시키는 자기 부상 기구 (41) 를 포함한다. 보호 디스크 (15) 는, 하위치와, 하위치보다 상방에 있어서 기판의 하면에 접근한 접근 위치의 사이에서 상하동 가능하다. 자기 부상 기구 (14) 는, 보호 디스크측 영구 자석 (60) 과, 스플래쉬 가드 (4) 에 유지된 환상의 가드측 영구 자석 (25) 을 포함한다. 가드 구동 기구 (5) 에 의해 스플래쉬 가드 (4) 를 상승시키면, 영구 자석의 사이의 자기 반발력에 의해, 보호 디스크 (15) 를 회전대 (7) 로부터 부상시켜 접근 위치에 유지할 수 있다. |
