发明名称 METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR CRYSTAL SUBSTRATE METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR APPARATUS SEMICONDUCTOR CRYSTAL SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR APPARATUS
摘要 질화물 반도체층에서의 결정성이 양호하며, 전기적인 특성이 양호한 반도체 장치를 제공한다. 실리콘을 포함하는 재료에 의해 형성된 기판과, 상기 기판 상에 실리콘과 질소를 포함하는 재료에 의해 형성된 질화물층과, 상기 질화물층 상에 형성된 AlN층과, 상기 AlN층 상에 형성된 전자 주행층과, 상기 전자 주행층 상에 형성된 전자 공급층을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치에 의해 상기 과제를 해결한다.
申请公布号 KR101597399(B1) 申请公布日期 2016.02.24
申请号 KR20130090386 申请日期 2013.07.30
申请人 후지쯔 가부시끼가이샤 发明人 도마베찌 슈이찌;고따니 준지;나까무라 노리까즈
分类号 H01L21/336;H01L29/778 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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