发明名称 PLASMA PROCESSING APPARATUS
摘要 플라즈마 처리 장치와 반송 챔버 사이의 단열성을 손상시키는 일없이, 플라즈마 처리 장치 내부로부터의 마이크로파의 누설을 효율적으로 방지한다. 인접하는 챔버와의 사이에서 상기 피처리체를 반입출시키기 위한 개구부를 갖는 처리 용기와, 상기 처리 용기 내에 마이크로파를 도입하는 마이크로파 도입 기구와, 상기 처리 용기를 진공 상태로 하는 배기 장치와, 상기 개구부 근방에 마련되는 게이트 밸브에 있어서, 상기 게이트 밸브의 외면과 상기 처리 용기에 인접하는 챔버 사이에 설치되는 단열 부재를 구비하고, 상기 단열 부재에는, 적어도 상기 단열 부재와 상기 게이트 밸브의 외면의 대향면, 상기 단열 부재와 상기 처리 용기에 인접하는 챔버의 대향면, 및 상기 단열 부재의 외기에 노출되는 면에서 도전성 피막이 피복되어 있는, 플라즈마 처리 장치.
申请公布号 KR101597054(B1) 申请公布日期 2016.02.23
申请号 KR20140170322 申请日期 2014.12.02
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 고바야시 야스오;이와사키 마사히데;야마기시 고지
分类号 H01L21/3065;H05H1/46 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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