发明名称 基板处理装置及薄膜之制造方法
摘要 一种能够对于尘埃附着在被涂布于基板上之膜的情况作抑制之基板处理装置。本发明之其中一种形态,系为一种基板处理装置,其特征为,具备有:旋转涂布处理室(4a),系用以藉由旋转涂布而在基板上涂布膜;和第1空调机构,系对于前述旋转涂布处理室内之空气中的尘埃之量作调整;和退火处理室(7a),系用以对于被涂布在前述基板上之膜进行灯管退火处理;和搬送室(2a),系分别与前述旋转涂布处理室以及前述退火处理室作连接,并用以在前述旋转涂布处理室和前述退火处理室之间而搬送前述基板;和第2空调机构,系对于前述搬送室内之空气中的尘埃之量作调整。
申请公布号 TWI523132 申请公布日期 2016.02.21
申请号 TW100113724 申请日期 2011.04.20
申请人 友技科股份有限公司 发明人 铃木光博;木岛健;本多佑二
分类号 H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/67(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种基板处理装置,其特征为,具备有:旋转涂布处理室,系用以藉由旋转涂布而在基板上涂布膜;和第1空调机构,系对于前述旋转涂布处理室内之空气中的尘埃之量作调整;和退火处理室,系用以对于被涂布在前述基板上之膜进行灯管退火处理;和搬送室,系分别与前述旋转涂布处理室以及前述退火处理室作连接,并用以在前述旋转涂布处理室和前述退火处理室之间而搬送前述基板;和第2空调机构,系对于前述搬送室内之空气中的尘埃之量作调整,前述旋转涂布处理室,系具备有使前述基板旋转之旋转机构、和在藉由前述旋转机构而被作旋转之前述基板上滴下化学材料之第1喷嘴、以及一面藉由前述第1喷嘴而将前述化学材料滴下至前述基板上一面对于前述基板表面之端部滴下洗净液之第2喷嘴。
地址 日本