电浆辅原子层沉积系统

摘要

电浆辅原子层沉积系统系用于在基板上生成薄膜，具有电浆腔体、制程腔体、多个遮板以及拨动件。该电浆腔体为由两个同轴心之不同管径的石英管所构成，故能有效把反应电浆均匀分布并局限于上述两个石英管之间的环状空间内，且藉由该些遮板上通孔的对齐与错开，使反应电浆得均匀照射至基板的大部分面积，而于基板均匀生成薄膜与奈米颗粒，还可透过该些遮板的相对旋转快速地启闭该制程腔体与电浆腔体的连通，而在适当时候中止反应电浆进入该制程腔体，以避免CVD情形出现。

主权项

一种电浆辅原子层沉积系统，系用于在基板上生成薄膜，包括：电浆腔体，主要系由两个同轴心之不同管径的石英外管与石英内管所构成，在该石英外管与石英内管之间的环状空间中会产生反应电浆，该电浆腔体的一侧系形成有开口，以供开放该环状空间而释出该环状空间中所产生的反应电浆；制程腔体，系供收容该基板，并具有前驱物进气环、氮气进气盘，且可连通该电浆腔体的开口，该前驱物进气环系供释出前驱物而与该基板产生反应，该氮气进气盘系设于该前驱物进气环上方，而提供以背离该电浆腔体的方向流向该前驱物进气环的氮气；第一遮板，设于该制程腔体中与该电浆腔体连通的内腔壁，并具有对应该开口环绕设置的多个第一通孔；第二遮板，设于该第一遮板背离该电浆腔体的一侧，具有分别对应各该第一通孔的多个第二通孔，各该第二通孔的孔径系大于与其对应的第一通孔孔径；以及拨动件，设于该制程腔体内以接触该第二遮板，用以拨动该第二遮板，俾令该第二遮板相对该第一遮板进行往复旋转运动，而让各该对应的第一通孔与第二通孔间歇性地对齐、错开，当该第一通孔与第二通孔对齐时，该电浆腔体所释出的反应电浆得依续通过该开口、第一通孔、第二通孔，而进入该制程腔体对该基板产生反应；当该第一通孔与第二通孔错开时，该第二遮板会遮蔽该开口，而中断该制程腔体与电浆腔体的连通。