发明名称 制造具有组织蚀刻的镀覆物体的方法
摘要 通过在一衬底(5)上沈积至少一个透明导电金属氧化层(3)来制造一涂层物体(2)的方法,该方法包括所述沈积(I)和优选随后对所述涂层(3)进行热处理(II)。所述可选的热处理(II)结束后,通过一蚀刻方法以统计学方式产生所述涂层(3)的表面结构(8)。
申请公布号 TWI522485 申请公布日期 2016.02.21
申请号 TW100103048 申请日期 2011.01.27
申请人 因特潘发展顾问公司 发明人 卡普兹 奥立佛;黑立策 洛他;凡斯 汉斯尤格;普凡斯 麦可
分类号 C23C14/08(2006.01);C23C16/40(2006.01);C23C14/58(2006.01);C23C16/56(2006.01);H01B5/14(2006.01) 主分类号 C23C14/08(2006.01)
代理机构 代理人 阎启泰;林景郁
主权项 一种通过在衬底上沈积至少一个透明导电金属氧化层来制造涂层物体的方法,其中通过蚀刻方法以统计学方式调节所述金属氧化层的表面结构,且其中在所述蚀刻前先用络合物形成剂在所述金属氧化层上就地制造掩膜。
地址 德国