| 发明名称 |
正型光阻材料及利用此之图案形成方法 |
| 摘要 |
正型光阻材料，系将包含以酸不稳定基取代羧基及/或苯酚性羟基之氢原子的重复单元、与通式(1)表示之具呋喃酮酯(furaneol ester)之重复单元a的重量平均分子量为1,000~500,000之范围的高分子化合物作为基础树脂;(R1
为氢原子或甲基，R2
为甲基或乙基，X为单键、酯基、醚基或具有内酯环之碳数1~12之连结基、伸苯基、或伸萘基。) 本发明之正型光阻材料抑制酸扩散的效果高，有高解像性，且曝光后之图案形状与边缘粗糙度为良好。 |
| 申请公布号 |
TWI522379 |
申请公布日期 |
2016.02.21 |
| 申请号 |
TW104101886 |
申请日期 |
2015.01.21 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
畠山润;长谷川幸士 |
| 分类号 |
C08F24/00(2006.01);C08F28/02(2006.01);C08F28/04(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/30(2006.01) |
主分类号 |
C08F24/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
| 主权项 |
一种正型光阻材料，其特征为将包含以酸不稳定基取代羧基及/或苯酚性羟基之氢原子之重复单元、与下列通式(1)表示之有呋喃酮酯之重复单元a之重量平均分子量为1,000~500,000之范围之高分子化合物作为基础树脂；
(式中，R1为氢原子或甲基，R2为甲基或乙基，X为单键、酯基、醚基或具有内酯环之碳数1~12之连结基、伸苯基、或伸萘基；0<a<1.0)。
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| 地址 |
日本 |
