处理液供给装置，基板处理装置，处理液供给方法，基板处理方法，处理液处理装置及处理液处理方法

摘要

明之处理液供给装置系为用于自吐出口将处理液加以吐出并将该处理液供给至处理对象物者，其包括有：第1配管，处理液能够流通于其内部，且该内部连通于上述吐出口；及X射线照射手段，其对存在于上述第1配管内之处理液，照射X射线。上述第1配管于其管壁具有开口，上述开口系利用由使用X射线能够穿透之材料所形成之窗构件而加以堵塞，上述X射线照射手段系经由上述窗构件而对存在于上述第1配管内之处理液，照射X射线。

主权项

一种处理液供给装置，其为用于自吐出口将处理液加以吐出并将该处理液供给至处理对象物者，其包括有：第1配管，处理液能够流通于其内部，且该内部连通于上述吐出口；及X射线照射手段，其对存在于上述第1配管内之处理液，照射X射线。