光罩基底及其制造方法与转印用光罩

摘要

明提供一种提高用以形成转印图案之薄膜对光阻之密接性，而可抑制所形成之光阻图案之崩塌或缺陷等之产生的光罩基底。本发明之光罩基底于透光性基板1上包含用以形成转印图案之包含含有金属之材料之薄膜2，上述薄膜2具有包含含有烃之氧化膜之表面改质层。该薄膜2之表面改质层例如可藉由使高浓度臭氧气体与不饱和烃气体作用于上述薄膜而形成。

主权项

一种光罩基底，其特征在于：其系于基板上包含用以形成转印图案之薄膜者，该薄膜含有金属，且上述薄膜具有包含含有烃之氧化膜之表面改质层。