| 发明名称 |
光阻组成物、光阻图型之形成方法及高分子化合物 |
| 摘要 |
含有经由曝光产生酸，且经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)之光阻组成物，其中，前述基材成份(A)为含有树脂成份(A1)，树脂成份(A1)为具有，具下述通式(a0-1)所表示之基的结构单位(a0-1)，与α位之碳原子所键结之氢原子可被取代基所取代之丙烯酸酯所衍生之结构单位，且含有经由酸之作用而增大极性之酸分解性基的结构单位(a1)。
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| 申请公布号 |
TWI522738 |
申请公布日期 |
2016.02.21 |
| 申请号 |
TW101104531 |
申请日期 |
2012.02.13 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
高木大地;盐野大寿;新井雅俊;岩下淳;昆野健理 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08F220/38(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种光阻组成物，其为含有经由曝光产生酸，且经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)之光阻组成物，其特征为，前述基材成份(A)为含有树脂成份(A1)，该树脂成份(A1)具有具下述通式(a0-1-1)所表示之基的结构单位(a0-1)、与α位之碳原子所键结之氢原子可被取代基所取代之丙烯酸酯所衍生之结构单位，且含有经由酸之作用而增大极性之酸分解性基的结构单位(a1)、与α位之碳原子所键结之氢原子可被取代基所取代之丙烯酸酯所衍生之结构单位，且含有含-SO2-之环式基的结构单位(a2S)，
[式中，R为氢原子、碳数1~5之烷基或碳数1~5之卤化烷基；Q1为含有-O-、-CH2-O-，或-C(=O)-O-之基；Rq1为氟原子或碳数1~5之氟化烷基；Y3为碳数1~4之直
链状或支链状之伸烷基；m3为1~4之整数；X+表示有机阳离子]。
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| 地址 |
日本 |
