| 发明名称 |
光阻材料、利用该光阻材料之图案形成方法、及聚合性单体与高分子化合物 |
| 摘要 |
明提供一种光阻材料，其系以重量平均分子量为1,000~500,000之范围之高分子化合物作为基础树脂而成，该高分子化合物包含：羧基及/或苯酚性羟基之氢原子取代为酸不安定基之重复单元、以及通式(1)表示之重复单元之。
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| 申请公布号 |
TWI522740 |
申请公布日期 |
2016.02.21 |
| 申请号 |
TW102117115 |
申请日期 |
2013.05.14 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
畠山润;提箸正义 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08F220/30(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
| 主权项 |
一种光阻材料，其特征为：将重量平均分子量为1,000~500,000之范围之高分子化合物作为基础树脂，该高分子化合物系将下列通式(1)表示之重复单元a、与下列通式(2-1)及/或(2-2)表示之具有酸不安定基之重复单元b1及/或b2共聚合而成之下列通式(2)表示之高分子化合物；
式中，R1为甲基、乙基、丙基、甲氧基、乙氧基或丙氧基，R2为氢原子或甲基；m为1~4之整数；R3、R5为氢原子或甲基，R4、R8表示酸不安定基；R6为单键、或碳数1~6之直链状或分支状之伸烷基，R7为氢原子、氟原子、三氟甲基、氰基、或碳数1~6之直链状、分支状或环状之烷基，p为1或2，q为0~4之整数；Y1为单键、具有酯基或醚基或内酯环之碳数1~12之2价连结基、伸苯基、或伸萘基；Y2为单键、-C(=O)-O-、或-C(=O)-NH-；0<a<1.0、0≦b1<1.0、0≦b2<1.0、0<b1+b2<1.0、0.1≦a+b1+b2≦1.0之范围。
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| 地址 |
日本 |
