| 摘要 |
서로 다른 처리 가스를 기판에 순서대로 공급하는 사이클을 복수회 반복하여 반응 생성물의 층을 적층하여 박막을 얻는 성막 장치이며, 진공 용기와, 상기 진공 용기 내에 배치되어, 기판을 적재하여 공전시키는 회전 테이블과, 제1 처리 가스를 기판에 공급하는 제1 처리 가스 공급부와, 상기 제1 처리 가스 공급부로부터 상기 회전 테이블의 회전 방향으로 이격되어 설치되어, 제2 처리 가스를 기판에 공급하는 제2 처리 가스 공급부와, 성막 처리 시의 상기 회전 테이블의 회전 방향에 있어서, 상기 제1 처리 가스 공급부와 제2 처리 가스 공급부 사이에 설치되어, 상기 제1 처리 가스 및 상기 제2 처리 가스를 분리하기 위한 분리 가스가 공급되는 분리 영역과, 상기 제1 처리 가스를 주로 배기하기 위한 제1 진공 배기구와, 상기 제1 진공 배기구로부터 상기 회전 테이블의 회전 방향으로 이격되어 형성되어, 상기 제2 처리 가스를 주로 배기하기 위한 제2 진공 배기구와, 상기 회전 테이블을 클리닝하기 위한 클리닝 가스를 공급하는 클리닝 가스 공급부를 포함하는 성막 장치를 운전하는 방법에 있어서, 상기 제1 진공 배기구로부터의 배기를 멈추고, 상기 제2 진공 배기구로부터 진공 배기를 행하면서, 상기 클리닝 가스 공급부로부터 진공 용기 내로 클리닝 가스를 공급하는 클리닝 공정을 포함하는 성막 장치의 운전 방법. |
