发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM
摘要 본 발명은 처리 유체에 의한 액체의 제거 능력의 저하를 억제하면서, 기판의 표면에 부착된 액체를 제거하는 것이 가능한 기판 처리 장치 등을 제공하는 것을 과제로 한다. 처리 용기(1)에서는 기판(W) 표면의 건조 방지용 액체에, 초임계 상태 또는 아임계 상태인 고압 상태의 처리 유체를 접촉시켜, 상기 건조 방지용 액체를 제거하는 처리를 행하는데 있어서, 승압 펌프(2)는 공급 라인(51)을 통해 처리 용기(1)에 처리 유체를 공급하여 고압 상태의 처리 유체 분위기로 하고, 계속해서, 이 승압 펌프(2)보다 토출 유량이 큰 순환 펌프(3)로, 처리 용기(1) 내의 유체를 순환 라인(53)에 순환시킨 후, 처리 용기(1) 내의 유체를 배출 라인(52)으로부터 배출한다.
申请公布号 KR101596076(B1) 申请公布日期 2016.02.19
申请号 KR20120032157 申请日期 2012.03.29
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 고시 겐타로
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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