发明名称 NOVEL COMPOUND POLYMER AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
摘要 본 발명의 목적은, 얻어지는 패턴 형상이 양호하고, 액침 노광 시에 액침 노광용 액체에 대한 용출물의 양이 적고, 후퇴 접촉각이 크고, 현상 결함이 적은 감방사선성 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 감방사선성 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 유래되는 반복 단위 (1)을 갖는 불소 함유 중합체와, 용제를 함유한다. <화학식 1>(화학식 1 중, R은 메틸기 등을 나타내고, R는 1-메틸에틸렌기 등을 나타내고, R은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬기 등을 나타내고, X는 탄소수 1 내지 20의 플루오로알킬렌기를 나타냄)
申请公布号 KR101596061(B1) 申请公布日期 2016.02.19
申请号 KR20107025830 申请日期 2009.05.18
申请人 제이에스알 가부시끼가이샤 发明人 사카키바라, 히로카즈;나루오카, 다케히코;시미즈, 마코토;니시무라, 유키오;마츠무라, 노부지;아사노, 유스케
分类号 C07C69/96;C08F20/28;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C07C69/96
代理机构 代理人
主权项
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