| 摘要 |
플라즈마 프로세싱 시스템에서 동적 정렬 (DA) 빔 교정을 수행하는 방법이 제공된다. 이 방법은 위치 차이를 포착하는 단계를 포함하며, 이 위치 차이는 광학 이미징 접근법을 이용하여 포착된다. 이 광학 이미징 접근법은 엔드 이펙터 상에 웨이퍼를 위치시키는 것, 엔드 이펙터 상의 웨이퍼의 스틸 이미지를 찍는 것, 이 스틸 이미지를 프로세싱하여, 엔드 이펙터에 의해 정의된 엔드 이펙터-정의된 중심 및 웨이퍼의 중심을 확인하는 것, 및 엔드 이펙터에 의해 정의된 엔드 이펙터-정의된 중심과 웨이퍼의 중심 사이의 위치 차이를 결정하는 것으로 구성된다. 이 방법은 또한 로봇 이동 보상으로 엔드 이펙터와 웨이퍼 사이의 위치 차이를 보상함으로써 엔드 이펙터에 대해 웨이퍼를 중심에 두는 단계를 포함한다. 이 방법은 플라즈마 프로세싱 모듈과 연관된 DA 빔을 통해 엔드 이펙터 및 웨이퍼를 이동시키는 단계를 포함한다. 이 방법은 또한 DA 빔의 차단-형성 패턴을 기록함으로써 참조 DA 빔 패턴을 획득하는 단계를 포함한다. 차단-형성 패턴은 DA 빔을 통해 웨이퍼 및 엔드 이펙터가 이동할 때 발생한다. |
