| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Abschirmvorrichtung (10) zur Abschirmung einer Komponente oder eines Bereichs vor Verunreinigung mit Mikro- oder Nanopartikeln mit einer Abschirmfläche, durch welche ein Durchtritt der Mikro- oder Nanopartikel, insbesondere ein quer, besonders senkrecht zur Abschirmfläche verlaufender Durchtritt durch die Abschirmfläche in Richtung der Komponente oder den Bereich verhindert werden soll, wobei die Vorrichtung mindestens eine Lichtquelle (11) zur Erzeugung mindestens eines abschirmenden Lichtstrahls (13) aufweist, wobei der oder die abschirmenden Lichtstrahlen zumindest teilweise parallel zur Abschirmfläche geführt sind, sodass die Mikro- oder Nanopartikel durch von dem oder den Lichtstrahlen auf die Mikro- oder Nanopartikel ausgeübten Kräften mit einer Bewegungskomponente in einer Richtung parallel zur Abschirmfläche oder quer zur Abschirmfläche entgegengesetzt zur abzuschirmenden Komponente oder zum abzuschirmenden Bereich versehen werden, sowie eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer entsprechenden Abschirmvorrichtung und Verfahren zur Abschirmung beziehungsweise zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage. |
