| 发明名称 |
METHODS AND SYSTEMS FOR DOPANT ACTIVATION USING MICROWAVE RADIATION |
| 摘要 |
반도체 구조에서 도펀트를 활성화시키는 시스템 및 방법이 제공된다. 예컨대, 복수의 도펀트를 포함하는 반도체 구조가 제공된다. 하나 이상의 마이크로파 흡수 물질이 제공되고, 마이크로파 흡수 물질은 반도체 구조와 연관된 전기장 밀도를 증가시킬 수 있다. 마이크로파 복사가 반도체 장치를 제조하기 위해 복수의 도펀트를 활성화시키도록 마이크로파 흡수 물질 및 반도체 구조에 마이크로파 복사를 인가된다. 마이크로파 흡수 물질은 반도체 구조의 마이크로파 복사 흡수율을 증가시켜 도펀트를 활성화시키기 위해 마이크로파 복사에 응답하여 전기장 밀도를 증가시키도록 구성된다. |
| 申请公布号 |
KR101590713(B1) |
申请公布日期 |
2016.02.18 |
| 申请号 |
KR20140078336 |
申请日期 |
2014.06.25 |
| 申请人 |
타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 |
发明人 |
차이 천 시웅;린 얀-팅;잔 청-얀;린 이-탕;완 크레먼트 싱젠 |
| 分类号 |
H01L21/263;H01L21/265;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/263 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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