发明名称 |
人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒 |
摘要 |
本发明的目的在于提供一种不损害指甲装饰所具有的光泽性等优点且去除时无需使用丙酮而减轻对指尖或指甲的负担的人造指甲的去除方法。并且,目的在于提供一种上述人造指甲的去除方法中所使用的美甲试剂盒及人造指甲组合物、以及使用上述人造指甲组合物的人造指甲。本发明的人造指甲的去除方法的特征在于,包含以下工序:将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序;将上述涂布膜进行干燥和/或曝光而形成人造指甲的工序;及使上述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序,上述人造指甲组合物含有成分A即具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或成分B即具有酸基的聚合物,上述去除液为pH8以上且11以下的水溶液。 |
申请公布号 |
CN105338952A |
申请公布日期 |
2016.02.17 |
申请号 |
CN201480032926.7 |
申请日期 |
2014.06.10 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
大桥秀和 |
分类号 |
A61K8/19(2006.01)I;A61K8/24(2006.01)I;A61K8/41(2006.01)I;A61K8/81(2006.01)I;A61K8/87(2006.01)I;A45D31/00(2006.01)I |
主分类号 |
A61K8/19(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
蒋亭 |
主权项 |
一种人造指甲的去除方法,其特征在于,包含以下工序:将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序;将所述涂布膜进行干燥和/或曝光而形成人造指甲的工序;及使所述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序,所述人造指甲组合物含有成分A即具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或成分B即具有酸基的聚合物,所述去除液为pH8以上且11以下的水溶液。 |
地址 |
日本国东京都 |