一种用于真空氮化的高精度真空动态控制系统

摘要

本发明公开了一种用于真空氮化的高精度真空动态控制系统，包括真空炉罐、进气系统和排气系统，所述进气系统与所述排气系统通过所述真空炉罐相连接，所述进气系统包括第一进气管道及第二进气管道；所述排气系统包括排气管道，所述排气管道上设有抽真空系统，所述第一进气管道上设有第一进气控制装置，所述第一进气控制装置用于控制所述第一进气管道的进气量；所述第二进气管道上设有第二进气控制装置，所述第二进气控制装置用于控制所述第二进气管道的进气量；所述排气管道上设有排气控制装置，所述排气控制装置用于控制所述排气管道的排气量。本发明通过精确动态控制进气及出气量，显著降低了真空炉罐内的压强波动，确保氮化处理工件的质量稳定性和重现性。

主权项

一种用于真空氮化的高精度真空动态控制系统，包括真空炉罐、进气系统和排气系统，所述进气系统与所述排气系统通过所述真空炉罐相连接，所述进气系统包括第一进气管道及第二进气管道；所述排气系统包括排气管道，所述排气管道上设有抽真空系统，其特征在于：所述第一进气管道上设有第一进气控制装置，所述第一进气控制装置用于控制所述第一进气管道的进气量；所述第二进气管道上设有第二进气控制装置，所述第二进气控制装置用于控制所述第二进气管道的进气量；所述排气管道上设有排气控制装置，所述排气控制装置用于控制所述排气管道的排气量。