基板处理装置、器件制造方法、扫描曝光方法、曝光装置、器件制造系统以及器件制造方法

摘要

具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。

主权项

一种基板处理装置，其具有将来自光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域的投影光学系统，其中，所述光罩配置于照明光的照明区域，所述基板处理装置的特征在于：具有：第一支承构件，其在所述照明区域和所述投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承所述光罩和所述基板中的一方；第二支承构件，其在所述照明区域和所述投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承所述光罩和所述基板中的另一方；和移动机构，其使所述第一支承构件旋转，使该第一支承构件所支承的所述光罩和所述基板中的一方在扫描曝光方向上移动，并且使所述第二支承构件移动，使该第二支承构件所支承的所述光罩和所述基板中的另一方在所述扫描曝光方向上移动，所述投影光学系统将所述图案的像形成在规定的投影像面上，所述移动机构设定所述第一支承构件的移动速度以及所述第二支承构件的移动速度，使所述图案的投影像面和所述基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。