发明名称 |
具有纹理化前表面和/或背表面的薄膜半导体光电器件 |
摘要 |
本发明涉及具有纹理化前表面和/或背表面的薄膜半导体光电器件。公开一种用于提供在光电器件中的纹理化层的方法。方法包括将模板层沉积在第一层上。模板层在厚度上或在组成上或在两者上具有明显的不均匀性,包括形成一个或多个岛状物以提供岛状物层的至少一个纹理化表面的可能性。方法还包括将模板层和第一层暴露于蚀刻工艺以产生或改变至少一个纹理化表面。改变的至少一个纹理化表面在操作中引起光散射。 |
申请公布号 |
CN105336797A |
申请公布日期 |
2016.02.17 |
申请号 |
CN201510475349.5 |
申请日期 |
2015.08.05 |
申请人 |
奥塔装置公司 |
发明人 |
丁逸康;布兰登·M·卡耶斯;罗斯·特威斯特;西尔维亚·斯普尤特;刘峰;雷格·东克;美利莎·J·艾契尔;何甘 |
分类号 |
H01L31/0236(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0236(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
张瑞;郑霞 |
主权项 |
一种用于提供光电器件中的纹理化层的方法,所述方法包括:a.将模板层沉积在第一层上,其中所述模板层在厚度上或在组成上或在厚度和组成上具有明显的不均匀性;以及b.将所述模板层和所述第一层暴露于蚀刻工艺以产生至少一个纹理化表面。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |