发明名称 Its controlling device and surface heat treatment method
摘要 본 발명은 단일 소재의 화합물층 및 확산층이 목표 두께에 만족하도록 동시에 표면 열처리하도록 한 표면 열처리방법 및 그 제어장치에 관한 것이다. 이를 위해, 단일 소재에 화합물층 및 확산층이 적층 형성되도록 표면 열처리하는 방법으로서, 화합물층 및 확산층의 목표 두께를 설정하는 설정단계; 상기 단일 소재에 열에너지를 가하는 열처리 조건에서, 상기 화합물층 및 확산층의 목표 두께에 도달하기 위한 상기 화합물층 및 확산층의 목표 열에너지수치를 도출하는 도출단계; 및 상기 단일 소재에 열에너지를 가하여 열처리시, 상기 화합물층 및 확산층에 열에너지가 가해져서 측정되는 실시간 열에너지수치와 상기 목표 열에너지수치를 비교하면서 열처리를 실시하는 열처리단계;를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다. 이같은 구성에 따라, 단일소재에 화합물층 및 확산층이 형성되는 표면 열처리시, 각 층의 반응에 대한 상대적 열에너지수치의 비율을 설정하고, 이를 만족시킬 수 있는 열사이클 모델을 설정하여 각 층에 열에너지를 동시에 가하여 열처리함으로써, 각 층의 목표 두께를 동시에 만족시키면서 제품을 쉽고 간편하게 열처리하는 효과가 있다.
申请公布号 KR101594139(B1) 申请公布日期 2016.02.17
申请号 KR20140042757 申请日期 2014.04.10
申请人 한국생산기술연구원 发明人 안경준
分类号 C21D1/00;C23C8/24;C23C8/36;C23C8/80 主分类号 C21D1/00
代理机构 代理人
主权项
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