发明名称 一种采用溅射法制备柔性无胶双面覆铜箔的方法
摘要 本发明公开了一种采用溅射法制备柔性无胶双面覆铜箔的方法,首先准备聚酰亚胺薄膜,采用去离子水清洗,干燥后采用电晕或等离子处理;然后将处理后的薄膜放入磁控溅射镀膜室,抽真空后充入氩气,调整气压并清洗薄膜表面,再继续抽真空并调整工作电压,溅射占空比30-70%,开始进行镀膜;当铜层的厚度达到1-12微米,则可关闭系统,取出铜-聚酰亚胺-铜的复合膜,即柔性无胶双面覆铜箔;最后对覆铜箔进行退火处理。本发明的方法制备的覆铜箔仅包含3层,无胶层,具有优异的高温性能、尺寸稳定性能;该覆铜箔可以做的很薄,最薄可以做到8微米以下,大大减少消费电子产品的厚度。本方法中的铜层不需要经历涂布、压合等工艺过程,产品良率高。
申请公布号 CN103695853B 申请公布日期 2016.02.17
申请号 CN201310645174.9 申请日期 2013.12.05
申请人 江苏科技大学 发明人 杨卫国
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人 李晓静
主权项 一种采用溅射法制备柔性无胶双面覆铜箔的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)准备聚酰亚胺薄膜,厚度4‑18微米,采用去离子水清洗,在80‑100℃干燥,然后采用电晕或等离子处理;(2)将经过步骤(1)处理后的薄膜放入磁控溅射镀膜室,抽真空至10<sup>‑2</sup>Pa,充入氩气,调整气压为1‑10Pa,清洗薄膜表面,然后再抽真空至10<sup>‑3</sup>Pa,调整工作电压为200‑500V,溅射占空比30‑70%,开始进行镀膜;(3)当铜层的厚度达到1‑12微米,则可关闭磁控溅射镀膜室的镀膜系统,取出铜‑聚酰亚胺‑铜的复合膜,即柔性无胶双面覆铜箔;(4)在80‑100℃对覆铜箔进行退火处理,退火时间为1‑2小时。
地址 212003 江苏省镇江市梦溪路2号