曝光系统

摘要

本发明涉及曝光系统，更具体地，本发明的曝光系统包括：发光单元；薄膜传送单元，薄膜贴合在其表面，并弯曲成圆、椭圆或具有部分曲率的状态传送；以及图案形成单元，将所述发光单元发射的光传递到贴合的所述薄膜，并在所述薄膜形成偏光图案。根据本发明，在连续地退绕卷曲在滚轴上的薄膜并形成偏光图案的情况下，也能够使薄膜的抖动及弯曲最小化，可对更为宽广的区域实现均匀的曝光，从而有助于改进图案相位差膜（pattern retarder）等的品质及提高生产效率。

主权项

一种曝光系统，所述曝光系统包括：发光单元；薄膜传送单元，薄膜贴合在所述薄膜传送单元的表面，并弯曲成圆、椭圆或具有部分曲率的状态被传送；以及图案形成单元，将所述发光单元发射的光传递到贴合的所述薄膜，并在所述薄膜上形成偏光图案，其中，所述图案形成单元包括以与所述曲率相同的曲率弯曲的掩膜及偏光器，其中，所述图案形成单元将从所述发光单元射出的光均匀地传递到贴合的所述薄膜。