发明名称 |
一种表面处理方法 |
摘要 |
本发明实施例提供了一种表面处理方法,涉及打印制造薄膜器件技术领域,解决了现有技术中对衬底表面处理,难以满足打印需求的问题。一种表面处理方法,包括:对形成有至少两种衬底图案的基板表面进行至少一次自组装单分子层表面处理,以及一次紫外臭氧清洗表面处理,以使得衬底图案的表面能之差变大或变小。本发明适用于打印制造薄膜器件时,对衬底表面进行处理。 |
申请公布号 |
CN103066004B |
申请公布日期 |
2016.02.17 |
申请号 |
CN201210472646.0 |
申请日期 |
2012.11.20 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
王向华;熊贤风;邱龙臻;刘则 |
分类号 |
H01L21/70(2006.01)I;B41M5/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/70(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种表面处理方法,其特征在于,包括:对形成有至少两种衬底图案的基板表面进行至少一次自组装单分子层表面处理之后,再进行一次紫外臭氧清洗表面处理,以改变衬底表面能的色散分量和/或极性分量,使得不同衬底图案的表面能之差变大或变小;所述自组装单分子层表面处理为两次以上,其中,该两次以上的自组装单分子层表面处理中每次使用的待形成单分子层的材料不同。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |