发明名称 一种金刚石辐射探测器的欧姆接触电极的制备方法
摘要 本发明涉及一种金刚石辐射探测器的欧姆接触电极制备方法。该制备方法主要包括非晶碳石墨层的制备、金属Pt和Au的制备以及退火处理,此外利用磁控溅射和离子溅射方法在金刚石薄膜上沉积制备C-Pt-Au三层体系,并在氮气气氛下退火,形成欧姆接触电极。本发明采用的非晶碳石墨作为金属与金刚石的中间层,起到增强附着力的作用,以及三层C-Pt-Au欧姆电极具有较高的IV性能、较低的薄膜漏电流,其电阻率得到明显改善、使器件的性能得到提高。
申请公布号 CN103746036B 申请公布日期 2016.02.17
申请号 CN201410001040.8 申请日期 2014.01.02
申请人 上海大学 发明人 王林军;杨溢铭;周捷;任兵;王君楠;黄健;唐可;张继军;夏义本
分类号 H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 顾勇华
主权项 一种金刚石辐射探测器的欧姆接触电极的制备方法,其特征在于具有以下的制备过程和步骤:a、非晶碳石墨层的制备采用纯碳靶,使用直流磁控溅射方法在单晶金刚石薄膜上溅射非晶碳石墨,系统的本底真空2×10<sup>‑4</sup>到5×10<sup>‑4</sup>Pa;溅射的工作气体是Ar气体, Ar的流量为10到15标准毫升/分;总气压在0.3‑0.8Pa;溅射功率一般为90‑120W;溅射时间为5‑15分钟;非晶碳石墨层厚度为5‑30nm;b、金属Pt和Au的制备采用Pt靶,通过离子溅射法在非晶碳石墨层上制备金属层Pt;溅射过程中,工作气压为0.75‑0.85Pa,离子流1.8‑2mA,溅射时间为12‑15分钟,Pt层厚度40‑60nm;溅射完成后,再采用Au靶,通过相同的工艺参数在Pt层上面溅射Au,Au层的厚度为120‑160nm;c、退火采用传统的退火工艺,将制作好的电极在氮气氛下退火;退火温度为350‑450℃,时间为10‑20分钟;最终制得金刚石薄膜上的C‑Pt‑Au三层欧姆电极。
地址 200444 上海市宝山区上大路99号