发明名称 |
一种连续波太赫兹实时水印成像检测装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种连续波太赫兹实时水印成像检测装置,该装置包括连续波太赫兹辐射源、准直扩束系统、高阻硅片、氩离子激光器、离轴抛物面镜、样品台、太赫兹波探测器和计算机。本实用新型利用准直扩束系统将太赫兹波准直为平行光束,并经离轴抛物面镜进行二次扩束,透过样品后将其聚焦到太赫兹波探测器,通过计算机对图像进行实时成像显示,并且利用氩离子激光是否照射到高阻硅片上,实现对检测装置的开、关控制。本实用新型的连续波太赫兹实时水印成像检测装置具有结构紧凑,响应速度快,开关方便,可以对水印进行实时成像,具有重要的实际应用价值。还可以对隐藏在报纸、织物、塑料等包裹物内的金属危险品等物体进行无损探测。 |
申请公布号 |
CN205038165U |
申请公布日期 |
2016.02.17 |
申请号 |
CN201520721353.0 |
申请日期 |
2015.09.18 |
申请人 |
首都师范大学 |
发明人 |
申彦春;赵国忠;刘影 |
分类号 |
G01N21/84(2006.01)I;G07D7/12(2016.01)I |
主分类号 |
G01N21/84(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种连续波太赫兹实时水印成像检测装置,其特征在于:该装置包括连续波太赫兹辐射源(1)、准直扩束系统(2)、高阻硅片(3)、氩离子激光器(4)、第一离轴抛物面镜(5)、第二离轴抛物面镜(6)、样品台(7)、第三离轴抛物面镜(8)、太赫兹波探测器(9)和计算机(10);所述太赫兹波源(1)依次连接准直扩束系统(2)、高阻硅片(3)、第一离轴抛物面镜(5)、第二离轴抛物面镜(6)、样品台(7)、第三离轴抛物面镜(8)、太赫兹波探测器(9)和计算机(10);所述氩离子激光器(4)照射到高阻硅片(3)上。 |
地址 |
100048 北京市海淀区西三环北路105号 |