发明名称 |
CD-SEM装置的校正方法、应用CD-SEM装置的方法及CD-SEM装置 |
摘要 |
本申请公开了一种CD-SEM装置的校正方法、应用CD-SEM装置的方法及CD-SEM装置。其中校正方法包括:步骤S1、获取SEM图形并采用设置在CD-SEM装置内部的图形特征尺寸检测单元对SEM图形进行在线检测,以获取SEM图形的第一特征尺寸T1;步骤S2、将SEM图形输出,并采用设置在CD-SEM装置外部的图形特征尺寸检测装置对SEM图形进行脱线检测,以获取SEM图形的第二特征尺寸T2;步骤S3、计算第一特征尺寸T1和第二特征尺寸T2之间的差值,获取偏差值;步骤S4、对比偏差值与SEM图形的特征尺寸的允许误差范围,以调整CD-SEM装置各运行参数。上述校正方法能改善CD-SEM装置的检测准确性。 |
申请公布号 |
CN105336635A |
申请公布日期 |
2016.02.17 |
申请号 |
CN201410341944.5 |
申请日期 |
2014.07.17 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
卢子轩;王跃刚 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 |
代理人 |
吴贵明;张永明 |
主权项 |
一种CD‑SEM装置的校正方法,其特征在于,所述校正方法包括:步骤S1、获取SEM图形并采用设置在所述CD‑SEM装置内部的图形特征尺寸检测单元对所述SEM图形进行在线检测,以获取所述SEM图形的第一特征尺寸T1;步骤S2、将所述SEM图形输出,采用设置在所述CD‑SEM装置外部的图形特征尺寸检测装置对所述SEM图形进行脱线检测,以获取所述SEM图形的第二特征尺寸T2;步骤S3、计算所述第一特征尺寸T1和所述第二特征尺寸T2之间的差值,获取偏差值;步骤S4、对比所述偏差值与所述SEM图形的特征尺寸的允许误差范围,如果所述偏差值超出所述SEM图形的特征尺寸的允许误差范围,则调整所述CD‑SEM装置各运行参数;以及重复步骤S1到步骤S4至所述偏差值位于所述SEM图形的特征尺寸的允许误差范围内。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |