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发明名称
BATCH TYPE APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE
摘要
배치식 기판처리 장치(10)가 개시된다. 본 발명에 따른 배치식 기판처리 장치(10)는, 복수개의 기판(50)이 처리되는 배치식 기판처리 장치(10)로서, 복수개의 기판(50)이 로딩/언로딩되는 복수개의 슬롯(s)을 포함하고, 기판처리 공간을 제공하는 챔버(105)를 포함하는 본체(100); 및 본체(100)의 전면에 배치되어 적어도 하나의 슬롯(s)을 개폐하는 도어 유닛(110, 120)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
申请公布号
KR101593536(B1)
申请公布日期
2016.02.16
申请号
KR20150053195
申请日期
2015.04.15
申请人
주식회사 테라세미콘
发明人
설준호;임현옥;김남경;염현진;박경완
分类号
H01L21/324;H01L21/56;H01L21/673;H01L21/677
主分类号
H01L21/324
代理机构
代理人
主权项
地址
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