APPARATUS AND METHODS FOR SPECTRUM BASED MONITORING OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

摘要

화학적 기계적 폴리싱의 스펙트럼 기반 모니터링을 위한 장치 및 방법에 관한 것으로서, 스펙트럼 기반의 종료점 결정, 스펙트럼 기반의 폴리싱 속도 조정, 윈도우를 갖는 패드 또는 광학 헤드의 상부 표면의 플러싱을 포함한다. 스펙트럼-기반 종료점 결정은 특정 스펙트럼 기반의 종료점 로직을 적용함으로써 종료점이 호출되는 때에 목표 두께가 달성될 수 있도록 특정 스펙트럼 기반의 종료점 결정 로직에 대해서 실험적으로 선택되는 기준 스펙트럼을 사용한다. 폴리싱 종료점은 인덱스 값들의 시퀀스 또는 편차 트레이스를 사용하여 결정될 수 있다. 플러싱 시스템은 광학 헤드의 상부 표면을 가로지르는 층류형 가스의 유동을 생성한다. 가스의 유동이 층류가 되도록 진공 노즐 및 진공 공급원들이 구성된다. 윈도우는 연성 플라스틱 부분 및 결정질 또는 유리-형 부분을 포함한다. 스펙트럼 기반의 폴리싱 속도 조정은 기판 상의 상이한 영역들에 대해 스펙트럼들을 획득하는 것을 포함한다.