发明名称 LOW DOSE PHARMACEUTICAL COMPOSITION
摘要 본 발명은 데페라시록스 또는 이의 약학적으로 허용가능한 유도체 및 1종 이상의 약학적으로 허용가능한 첨가제를 포함하는 저-투여량 약학 조성물을 제공한다. 상기 약학 조성물의 단위 용량(unit dose)은 약 50 mg 내지 약 100 mg의 데페라시록스, 약 150 mg 내지 약 200 mg의 데페라시록스 또는 약 260 mg 내지 약 350 mg의 데페라시록스를 포함한다. 데페라시록스를 포함하는 본 발명의 약학 조성물은 만성 철 과부하를 치료하거나 혹은 납 독성을 치료하기 위하여 사용될 수 있다. 데페라시록스 및 데페리프론을 포함하는 본 발명의 약학 조성물은 납 독성을 치료하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명은 또한 상기 저-투여량 약학 조성물의 제조방법으로서, 데페라시록스 및 1종 이상의 첨가제를 용해 혹은 흡착 혹은 혼합하여 데페라시록스의 분산물을 제조하는 단계; 및 상기 분산물을 가공하여 원하는 투여 형태를 제조하는 단계를 포함하는 제조방법을 제공한다.
申请公布号 KR20160016845(A) 申请公布日期 2016.02.15
申请号 KR20157034724 申请日期 2014.05.08
申请人 CIPLA LIMITED 发明人 MALHOTRA GEENA;PURANDARE SHRINIVAS MADHUKAR
分类号 A61K31/4196;A61K9/00;A61K9/20;A61K31/405;A61K31/4412;A61K31/557 主分类号 A61K31/4196
代理机构 代理人
主权项
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