发明名称 |
LOW DOSE PHARMACEUTICAL COMPOSITION |
摘要 |
본 발명은 데페라시록스 또는 이의 약학적으로 허용가능한 유도체 및 1종 이상의 약학적으로 허용가능한 첨가제를 포함하는 저-투여량 약학 조성물을 제공한다. 상기 약학 조성물의 단위 용량(unit dose)은 약 50 mg 내지 약 100 mg의 데페라시록스, 약 150 mg 내지 약 200 mg의 데페라시록스 또는 약 260 mg 내지 약 350 mg의 데페라시록스를 포함한다. 데페라시록스를 포함하는 본 발명의 약학 조성물은 만성 철 과부하를 치료하거나 혹은 납 독성을 치료하기 위하여 사용될 수 있다. 데페라시록스 및 데페리프론을 포함하는 본 발명의 약학 조성물은 납 독성을 치료하기 위하여 사용될 수 있다. 본 발명은 또한 상기 저-투여량 약학 조성물의 제조방법으로서, 데페라시록스 및 1종 이상의 첨가제를 용해 혹은 흡착 혹은 혼합하여 데페라시록스의 분산물을 제조하는 단계; 및 상기 분산물을 가공하여 원하는 투여 형태를 제조하는 단계를 포함하는 제조방법을 제공한다. |
申请公布号 |
KR20160016845(A) |
申请公布日期 |
2016.02.15 |
申请号 |
KR20157034724 |
申请日期 |
2014.05.08 |
申请人 |
CIPLA LIMITED |
发明人 |
MALHOTRA GEENA;PURANDARE SHRINIVAS MADHUKAR |
分类号 |
A61K31/4196;A61K9/00;A61K9/20;A61K31/405;A61K31/4412;A61K31/557 |
主分类号 |
A61K31/4196 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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