发明名称 ORGANIC SEMICONDUCTOR FILM, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND TRANSISTOR STRUCTURE
摘要 원하는 밴드 갭을 확실하게 얻을 수 있는 유기 반도체막을 제공한다. 초고진공 성막 장치(10)에 있어서, 원료 셀(12)로부터 분체인 5, 5', 5'', 5''', 5'''', 5'''''-헥사브로모시클록헥사-m-페닐렌(CHP)을 열에너지를 부여해서 승화시키고, 기판 G의 촉매 금속층 M에 CHP의 분자를 충돌시켜서 브롬을 탈리시키고, 생성된 복수의 페닐라디칼을 울만 반응에 의해 서로 중합시켜서, 탄소 원자의 이차원 네트워크 구조를 형성한다.
申请公布号 KR20160016804(A) 申请公布日期 2016.02.15
申请号 KR20157033841 申请日期 2014.05.27
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 KAGAYA MUNEHITO;MATSUMOTO TAKASHI;KATO TAIKI
分类号 C08G61/10;H01L51/00;H01L51/05 主分类号 C08G61/10
代理机构 代理人
主权项
地址