发明名称 WAFER WASHING METHOD
摘要 본 발명은 표면에 요철 패턴을 갖는 웨이퍼의 제조 방법에 있어서, 패턴 붕괴를 유발하기 쉬운 세정 공정을 개선하기 위한 세정 방법을 제공한다. 본 발명은 표면에 요철 패턴을 갖는 웨이퍼의 세정 방법으로서, 적어도, 상기 웨이퍼를 세정액으로 세정하는 공정, 세정 후에 웨이퍼의 오목부에 유지된 세정액을 발수성 약액으로 치환하는 공정, 웨이퍼를 건조하는 공정을 갖고, 상기 세정액이, 비점이 55∼200℃인 용매를 80질량% 이상 포함하는 것이고, 상기 치환하는 공정에 있어서 제공되는 발수성 약액의 온도를, 40℃ 이상, 당해 발수성 약액의 비점 미만으로 함으로써, 적어도 상기 오목부 표면을 발수화시키는 것이다.
申请公布号 KR101593517(B1) 申请公布日期 2016.02.15
申请号 KR20137018746 申请日期 2011.12.20
申请人 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 发明人 구몬 소이치;사이오 다카시;아라타 시노부;사이토 마사노리;나나이 히데히사;아카마츠 요시노리
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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