| 摘要 |
【課題】薄膜化処理ユニットからミセル除去処理ユニットへ持ち込まれる薄膜化処理液量が多くなっても、ミセル除去液のｐＨが上がり過ぎることを防止することができ、レジスト層の薄膜化処理量が不均一になる問題を解決することができるレジスト層の薄膜化装置を提供することである。【解決手段】薄膜化処理液によって、基板上に形成されたレジスト層中の成分をミセル化させる薄膜化処理ユニットと、ミセル除去液１０によってミセルを除去するミセル除去処理ユニット１２とを備えてなるレジスト層の薄膜化装置において、ミセル除去処理ユニット１２がミセル除去液スプレーポンプ２４及びｐＨセンサー２８を有し、ミセル除去液スプレーポンプ２４によって、基板上のレジスト層にミセル除去液１０が供給され、ｐＨセンサー２８は、基板から流下した後のミセル除去液１０のｐＨをモニターすることができる位置に設置されている。【選択図】図６ |
