| 摘要 |
システム及び方法は、レーザパルスエネルギー制御及び／又はモニタリングを提供する。レーザ加工装置の例は、レーザパルスビームを生成するレーザシステムと、上記ビームにおけるそれぞれのレーザパルスのパルスエネルギーをパルスごとに調整するパルスエネルギー制御システムとを含んでいる。上記パルスエネルギー制御システムは、レーザパルスエネルギーをパルス繰り返し周波数の関数としてマッピングした較正透過度曲線に基づいてそれぞれのレーザパルスに対してパルスエネルギー透過度値を選択する開ループフィードフォワード制御経路を含んでいる。レーザエネルギーモニタは、上記レーザパルスビームにおけるそれぞれのレーザパルスのレーザパルスエネルギーを測定する。パワー制御ループが、レーザエネルギーモニタからのフィードバックに基づいて、上記レーザパルスビームにおける１以上のレーザパルスのパルスエネルギーをさらに調整してもよい。 |
