| 摘要 |
플라즈마 식각 공정에서 리크 원인을 검출하는 방법, 장치 및 그를 이용한 플라즈마 식각 장치가 제공된다. 본 발명에 따른 플라즈마 식각 공정에서 리크(leak)의 원인을 검출하는 방법은 상기 식각 공정 중 플라즈마 생성 챔버 내로 주입된 제 1 가스에 대한 광학적 분석 데이터를 생성하는 단계, 상기 광학적 분석 데이터로부터 제 2 가스에 대한 정량적 분석을 수행하는 단계 및 상기 제 2 가스에 대한 정량적 분석 결과에 근거하여, 상기 챔버 내에 존재하는 제 2 가스의 유입 원인을 결정하는 단계를 포함하되, 상기 제 2 가스는 상기 제 1 가스 주입 시 상기 리크(leak)로 인해 상기 플라즈마 생성 챔버 내로 유입되는 가스 종(種)인 것을 특징으로 한다. |
