空白光罩、制造空白光罩及转印光罩之方法

摘要

明系关于一种制造空白光罩之方法，该空白光罩适合以电子束写入来形成光阻图案，并且具有遮光膜以及耐遮光膜蚀刻之无机材料的蚀刻光罩膜，其系在透明基板上依此顺序形成，当形成蚀刻光罩膜时，系使用遮蔽板来进行遮蔽，以避免蚀刻光罩膜在至少一个基板侧表面形成。

主权项

一种空白光罩，其系适合以电子束写入来形成光阻图案的电子束写入用空白光罩，并且该空白光罩具有转印图案形成用薄膜以及对该转印图案形成用薄膜之蚀刻具有耐性之无机材料的蚀刻光罩膜，其系在基板上依此顺序形成，其中，该空白光罩为于多层反射膜上或者是置放于多层反射膜上的缓冲层之上形成有该转印图案形成用薄膜之反射型空白光罩，该转印图案形成用薄膜是由导电材料所制成，而使得在以电子束写入图案的期间，转印图案形成用薄膜不会带电，并且由该基板的主要表面延伸至基板的侧表面或转角表面而形成；该蚀刻光罩膜系以不会出现在该基板的至少一个侧表面，而使该转印图案形成用薄膜曝露而形成。