发明名称 石墨烯镀层之制造方法
摘要 石墨烯镀层之制造方法,以一溅镀制程在一基材上形成一石墨镀层,以及对该石墨镀层进行一微影制程,以使该石墨镀层薄化成一石墨烯层。
申请公布号 TWI521076 申请公布日期 2016.02.11
申请号 TW102114278 申请日期 2013.04.22
申请人 财团法人金属工业研究发展中心 发明人 黄家宏;邱松茂;锺崇仁;吴博雄
分类号 C23C14/06(2006.01);C23C14/34(2006.01);C23C14/58(2006.01) 主分类号 C23C14/06(2006.01)
代理机构 代理人 张启威
主权项 一种石墨烯镀层之制造方法,以一溅镀制程在一基材形成一石墨镀层,该溅镀制程是在一溅镀机进行,该溅镀机具有一真空腔,在该真空腔中放置一石墨靶材及该基材,且提供一反应性气体于该真空腔内,以进行该溅镀制程;进行一通气步骤,其系通入一氩气于该真空腔;以及对该石墨镀层进行一微影制程,该微影制程系以一离子源薄化该石墨镀层,以使该石墨镀层之部份自该石墨镀层剥离而薄化成一石墨烯层。
地址 高雄市楠梓区高楠公路1001号