发明名称 | 石墨烯镀层之制造方法 | ||
摘要 | 石墨烯镀层之制造方法,以一溅镀制程在一基材上形成一石墨镀层,以及对该石墨镀层进行一微影制程,以使该石墨镀层薄化成一石墨烯层。 | ||
申请公布号 | TWI521076 | 申请公布日期 | 2016.02.11 |
申请号 | TW102114278 | 申请日期 | 2013.04.22 |
申请人 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 发明人 | 黄家宏;邱松茂;锺崇仁;吴博雄 |
分类号 | C23C14/06(2006.01);C23C14/34(2006.01);C23C14/58(2006.01) | 主分类号 | C23C14/06(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 张启威 | |
主权项 | 一种石墨烯镀层之制造方法,以一溅镀制程在一基材形成一石墨镀层,该溅镀制程是在一溅镀机进行,该溅镀机具有一真空腔,在该真空腔中放置一石墨靶材及该基材,且提供一反应性气体于该真空腔内,以进行该溅镀制程;进行一通气步骤,其系通入一氩气于该真空腔;以及对该石墨镀层进行一微影制程,该微影制程系以一离子源薄化该石墨镀层,以使该石墨镀层之部份自该石墨镀层剥离而薄化成一石墨烯层。 | ||
地址 | 高雄市楠梓区高楠公路1001号 |