发明名称 化学增幅正型阻剂材料及图型形成方法
摘要 明系关于化学增幅型阻剂材料之基质 树脂系含有具有以酸不安定基保护的酸性官能基之硷不溶性或难溶性的高分子化合物及苯并三唑系化合物之化学增幅正型阻剂材料及图型形成方法。
申请公布号 TWI520998 申请公布日期 2016.02.11
申请号 TW101126634 申请日期 2012.07.24
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 安田浩之;竹村胜也
分类号 C08K5/3475(2006.01);G03F7/039(2006.01);G03F7/40(2006.01);G03F7/42(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 C08K5/3475(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种化学增幅正型阻剂材料,其特征系含有(A)有机溶剂、(B)基质树脂、(C)光酸产生剂、(D)下述一般式(1)或(2)所示之苯并三唑化合物而成,且(B)成分之基质树脂含有具有下述一般式(4)所示之重复单元的重量平均分子量1,000~500,000之高分子材料与具有下述一般式(5)所示之重复单元的重量平均分子量10,000~500,000的聚乙烯醚共聚合物高分子材料, 〔(式中、P为氢原子、羟基、非取代或者具有取代基的烷基、非取代或者具有取代基的苯基、磺酸或者其衍生物、或-Z-Y(但,Z为可以羧基取代的伸烷基、环伸烷基或伸烷基醚基,Y为羟基、烷氧基、羧基、或二烷基胺基),Q为氢原子、卤素原子、羟基、烷基、烷氧基、或下述式(3)所示之有机基) (式中、S为碳数1~12之烷基或醛基)〕 (式中、T为氢原子、羟基、非取代或者具有取代基的烷基、或非取代或者具有取代基的苯基,W为氢原子、卤素原子、羟基、烷基、或烷氧基) (式中、R1为氢原子、羟基、直链状烷基、分支状烷基、卤素原子、或三氟甲基,R2为氢原子、羟基、卤素原子、或三氟甲基,R3为碳数4~12的三级烷基,R4为氢原子、酸不安定基、或二三氟甲基羟基,R5为氢原子或甲基,R6为氢原子、甲基、烷氧基羰基、氰基、卤素原子、或三氟甲基,R7为碳数4~30的烷基,又,n为1~4之整数,m为0或1~5之整数,p、r、s为0或正数,q为正数,p+q+r+s=1) (式中、R8为氢原子、或碳数1~12的直链状或分支状烷基,R9为氢原子或甲基,R10为氢原子或下述一般式(6) (式中、R12为氢原子或甲基)所表示的有机基,R11为上述一般式(6)所表示的有机基、腈基、或卤素原子,t+u=1,0≦u≦0.5)。
地址 日本