载台驱动方法及载台装置、曝光装置、及元件制造方法

摘要

一载台(WST1(或WST2))位于有液体Lq供应之投影光学系统PL正下方之第1区域之第1状态，迁移至另一载台(WST2(或WST1))位于第1区域之第2状态时，使两载台维持于X轴方向呈近接状态朝X轴方向同时驱动。因此，能在投影光学系统与位于其正下方之特定载台之间供应液体之状态下，从第1状态迁移至第2状态。藉此，能使从一载台侧之曝光动作结束至另一载台侧之曝光动作开始为止之时间缩短，使能进行高产能之处理。又，因在投影光学系统之像面侧能使液体持续存在，故能防止在投影光学系统之像面侧之光学构件产生水痕。

主权项

一种曝光装置，系透过投影光学系统与液体以能量束将基板曝光，其特征在于：具备藉由前述液体于前述投影光学系统之下形成液浸区域之液浸系统、分别载置基板之第1、第2载台、以一方与前述投影光学系统对向配置之前述第1、第2载台互相接近之方式相对于前述一方之载台将前述第1、第2载台之另一方相对移动且以前述另一方之载台代替前述一方之载台与前述投影光学系统对向配置之方式相对于前述液浸区域将前述已接近之第1、第2载台相对移动之驱动系统、于相对于前述液浸区域之前述已接近之第1、第2载台之移动中，至少一部分位于前述已接近之第1、第2载台之间隙之板构件，前述第1、第2载台系以前述板构件之至少一部分位于其间隙之方式互相接近配置，藉由相对于前述液浸区域之前述已接近之第1、第2载台之移动，前述液浸区域实质上维持于前述投影光学系统之下并透过前述板构件从前述一方之载台往前述另一方之载台移动。