| 发明名称 |
聚矽氧烷组成物及图型形成方法 |
| 摘要 |
明为含有[A]聚矽氧烷、以及[B]具含氮杂环构造、与由极性基及酯基所成群中选出的至少1种之基的含氮化合物之聚矽氧烷组成物。以更含有[C]经紫外线之照射及加热中至少一种而产生酸的化合物为佳。[B]化合物以具有极性基及酯基之化合物为佳。[B]化合物以作为极性基含有由羟基及羧基所成群中选出的至少1种之基为佳。 |
| 申请公布号 |
TWI521018 |
申请公布日期 |
2016.02.11 |
| 申请号 |
TW100124982 |
申请日期 |
2011.07.14 |
| 申请人 |
ＪＳＲ股份有限公司 |
发明人 |
庵野佑亮;森隆;出井慧;高梨和宪;松村裕史;峯岸信也 |
| 分类号 |
C08L83/04(2006.01);C08K5/34(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
C08L83/04(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种聚矽氧烷组成物，其系抗蚀下层膜形成用，其特征系含有〔A〕聚矽氧烷、以及〔B〕具有含氮杂环构造、与极性基及酯基所成群中选出的至少1种之基的化合物。
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| 地址 |
日本 |
