发明名称 | 涂布处理方法、电脑记忆媒体及涂布处理装置 | ||
摘要 | 明之目的为提供一种涂布处理方法、电脑记忆媒体及涂布处理装置,于基板上涂布涂布液时,将涂布液的供给量抑制为少量,并在基板面内均一地涂布涂布液。 | ||
申请公布号 | TWI520788 | 申请公布日期 | 2016.02.11 |
申请号 | TW100124807 | 申请日期 | 2011.07.13 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 吉原孝介;畠山真一 |
分类号 | B05C5/02(2006.01);H01L21/312(2006.01) | 主分类号 | B05C5/02(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | 一种涂布处理方法,于基板上涂布涂布液,其特征为:包含如下步骤:第1步骤,以第1转速使基板旋转;第2步骤,其后,将基板之旋转减速,以较第1转速缓慢的第2转速之100rpm~500rpm使基板旋转;第3步骤,其后,将基板之旋转加速,以较第2转速快速且较第1转速缓慢的第3转速使基板旋转;第4步骤,其后,将基板之旋转减速,以较第3转速缓慢的第4转速使基板旋转,一面抑制涂布液之乾燥一面使基板中心部之涂布液向基板的外周扩展;以及第5步骤,其后,将基板之旋转加速,以较第4转速快速的第5转速使基板旋转;且该第1转速为2000rpm~3500rpm;对基板中心部之涂布液的供给,系在自该第1步骤起至该第2步骤之中途为止,或于该第1步骤间连续地施行;该第4转速为100rpm~500rpm,该第2转速与该第4转速相同。 | ||
地址 | 日本 |