| 摘要 |
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 내부 공간이 형성된 공정 챔버, 상기 공정 챔버 내부에 위치하며, 기판을 지지하는 지지 유닛, 상기 공정 챔버 내부로 공정 가스를 공급하는 가스 공급 유닛, 상기 공정 챔버 내부에 공급된 상기 공정 가스를 여기시키는 플라즈마 생성 유닛, 그리고 상기 공정 챔버의 내측면에 대응되게 제공되는 제 1 외측 라이너를 갖는 상부 라이너 유닛을 포함하되, 상기 제 1 외측 라이너는 그 내측면이 굴곡지게 형성될 수 있다. |
