发明名称 质流控制器
摘要 质流控制器,其包含:一第一流量计,其被架构与安排以测量经过该质流控制器之流量;一第二流量计,其被架构与安排以测量经过该质流控制器之流量;一控制阀,其被架构与安排以回应一控制讯号,该控制讯号系由该等流量计之其中之一所测量到之该流率的一函数所产生,而控制经过该质流控制器之质量的该流率;以及一系统控制器,其被架构与安排以产生该控制讯号,且当由该第一流量计所测量之质量的该流率与由该第二流量计所测量之质量的该流率之间的差超过一临界值时,会提供一指示。
申请公布号 TWI521190 申请公布日期 2016.02.11
申请号 TW104106156 申请日期 2015.02.26
申请人 MKS公司 发明人 丁 军华
分类号 G01F25/00(2006.01);G05D7/06(2006.01) 主分类号 G01F25/00(2006.01)
代理机构 代理人 林秋琴;陈彦希
主权项 一种质流控制器,用于控制从一来源至一目标之气流,该质流控制器包含:一第一流量计,其被架构与安排以测量经过该质流控制器之气体的流量,以作为热感应质流的函数;一第二流量计,其包括一压力感应器以及定义用于接收流经该质流控制器之气体的一预定体积的一结构,该第二流量计系被架构与安排以测量经过该质流控制器之气体的流量,以作为当允许从一预定体积而流动时,所测量到之气体压力之衰减率的函数;一上游比例控制阀,其被架构与安排以选择性地控制到该质流控制器内之气体的流率;一下游比例控制阀,其被架构与安排来回应一控制讯号,以控制来自该质流控制器之气体的流量,该控制讯号系由一设定点以及由该等流量计之其中之一所测量到的流率之函数所产生;一系统处理器/控制器,其被架构与安排以产生该控制讯号,并且当该第一流量计所测量到之气体的流量与该第二流量计所测量之气体的流量之间的差超过一临界值时,会提供一指示;其中该压力感应器、上游流量比例控制阀以及系统处理器/控制器被进一步架构与安排以形成一密闭回路的压力控制器,该密闭回路的压力控制器被组态以调整在该预定体积之内部压力。
地址 美国