发明名称 黏着带
摘要 明系提供一种黏着带,其具有可充分填埋被黏着体之凹凸之阶差追随性,且可随时间经过而维持充分填埋凹凸之状态。本发明之黏着带具备黏着剂层与基材层,该黏着剂层于20℃下之储存弹性模数为0.5×106 Pa~1.0×108 Pa,该黏着剂层于20℃~80℃下之损耗正切tanδ为0.1以上。于较佳实施形态中,上述黏着剂层包含使用二茂金属触媒聚合而获得之非晶质丙烯-(1-丁烯)共聚物,该丙烯-(1-丁烯)共聚物之重量平均分子量(Mw)为200,000以上,该丙烯-(1-丁烯)共聚物之分子量分布(Mw/Mn)为2以下。
申请公布号 TWI521039 申请公布日期 2016.02.11
申请号 TW101108951 申请日期 2012.03.15
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 佐佐木贵俊;土生刚志;生岛伸佑;龟井胜利;浅井文辉
分类号 C09J7/02(2006.01) 主分类号 C09J7/02(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种黏着带,其具备黏着剂层与基材层,该黏着剂层于20℃下之储存弹性模数为0.5×106Pa~1.0×108Pa,该黏着剂层于20℃~80℃下之损耗正切tanδ为0.1以上,该黏着剂层包含使用二茂金属触媒聚合而获得之非晶质丙烯-(1-丁烯)共聚物及结晶性聚丙烯系树脂,相对非晶质丙烯-(1-丁烯)共聚物与结晶性聚丙烯系树脂之合计重量,结晶性聚丙烯系树脂之含有比率为20重量%~45重量%。
地址 日本