雷射照射装置、使用此装置进行雷射照射之方法以及非晶矽薄膜结晶化之方法

摘要

明系揭露一种雷射照射装置、一种使用此装置进行雷射照射之方法以及一种非晶矽薄膜结晶化之方法，特别是有关于一种可减少雷射光束强度变异之雷射照射装置、一种使用此种装置进行雷射照射之方法以及一种可改善多晶矽薄膜之结晶均匀度的非晶矽薄膜结晶化方法。雷射照射装置包括一雷射振荡器及一光学系统。雷射振荡器系用以振荡一雷射光束。光学系统则设置于该雷射振荡器之前方，并用以修正该雷射光束并将该修正后的雷射光束照射至一物体上。其中，该光学系统包括一光束分割器以及一光通量调整器，该光束分割器系用以将该雷射光束进行分割，而该光通量调整器系用以调整该雷射光束之通量。

主权项

一种雷射照射装置，包括：一雷射振荡器，用以依一第一间隔时间振荡一雷射光束；以及一光学系统，设置于该雷射振荡器之前方，并用以修正该雷射光束并将该修正后的雷射光束照射至一物体上；其中，该光学系统包括一光束分割器以及一光通量调整器，该光束分割器系用以将该雷射光束进行分割为复数个分割雷射光束，而该光通量调整器系用以调整各该复数个分割雷射光束之通量，以依序地自该光通量调整器依一第二间隔时间发射各该复数个分割雷射光束，且其中自该雷射振荡器之该雷射光束的该第一间隔时间系与自该光通量调整器之该分割雷射光束之该第二间隔时间相同。