光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法

摘要

一种光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法，该方法是沿光轴方向移动所述的聚光镜组的最后一块透镜，实现矩形照明光斑边缘位置和中心位置相对光强的调节。本发明无需添加额外的光学元件，仅依靠原光刻机曝光系统中已有光学元件的简单移动，即可实现照明均匀性的校正。该方法具有操作方便、不引起光强衰减的特点。适用于任何紫外光波段的光刻机曝光系统。

主权项

一种光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法，所述的光刻机曝光系统中实现所需照明光斑的单元主要有衍射光学元件、变焦距准直镜组、锥形镜组、微透镜阵列、聚光镜组、扫描狭缝和照明镜组，所产生的矩形照明光斑照射在掩模板上，通过投影物镜实现掩模图形的传递，其特征在于，该方法是沿光轴方向移动所述的聚光镜组的最后一块透镜，实现矩形照明光斑边缘位置和中心位置相对光强的调节，从而校正矩形照明光斑的不均匀性。