发明名称 旋转清洗装置
摘要 本发明提供旋转清洗装置,其具备:旋转工作台,其对晶片进行吸附保持并旋转;清洗液供给构件;清洗液接收容器,其具有围绕旋转工作台的环状外周侧壁、环状内周侧壁和底壁;驱动构件,其在清洗位置和退避位置之间移动清洗液供给构件;以及排气构件,其与清洗液接收容器的底壁连接,其特征在于,清洗液供给构件包括:旋转轴,其与驱动构件连接;臂,其与旋转轴一体连结并沿着水平方向伸长;以及清洗液喷嘴,其形成于臂的末端并向保持于旋转工作台的晶片喷射清洗液,在环状外周侧壁形成有在清洗液供给构件定位于退避位置时收纳清洗液供给构件的收纳开口部,在清洗液供给构件配设有封闭罩,在清洗液供给构件收纳于收纳开口部时封闭罩封闭收纳开口部。
申请公布号 CN102315089B 申请公布日期 2016.02.10
申请号 CN201110178916.2 申请日期 2011.06.29
申请人 株式会社迪思科 发明人 香西宏彦;山村英司
分类号 H01L21/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 党晓林;王小东
主权项 一种旋转清洗装置,其具备:旋转工作台,其对晶片进行吸引保持并旋转;清洗液供给构件,其向被所述旋转工作台保持着的晶片供给清洗液;清洗液接收容器,其具有围绕所述旋转工作台的环状外周侧壁、环状内周侧壁和底壁;驱动构件,其使所述清洗液供给构件在清洗位置和退避位置之间转动,所述清洗位置是所述清洗液供给构件对保持于所述旋转工作台的晶片进行清洗的位置,所述退避位置是所述清洗液供给构件从该旋转工作台上方离开而收纳于形成在该环状外周侧壁的外侧的收纳部内的位置;以及排气构件,其与所述清洗液接收容器的底壁相连接,并将所述清洗液接收容器内的空气排出,所述旋转清洗装置的特征在于,所述清洗液供给构件包括:旋转轴,其与所述驱动构件相连接;臂,其与所述旋转轴一体地连结,并沿着水平方向伸长;以及清洗液喷嘴,其形成于所述臂的末端,并向保持于所述旋转工作台的晶片喷射清洗液,所述环状外周侧壁形成有收纳开口部,在所述清洗液供给构件定位于收纳于所述收纳部内的退避位置时,所述收纳开口部允许所述清洗液供给构件通过,所述清洗液供给构件配设有封闭罩,所述封闭罩经由支撑部件支撑于所述清洗液供给构件的所述臂,在所述清洗液供给构件收纳于所述收纳部内时,所述封闭罩封闭所述收纳开口部,并且,在所述收纳开口部以垂下的方式配设有具有柔性且被分割成多个的挡帘,在所述清洗液供给构件定位于清洗位置时,所述挡帘封闭所述收纳开口部,在所述旋转工作台进行高速旋转以对晶片进行干燥时,所述清洗液供给构件被收纳到形成于所述清洗液接收容器的所述环状外周侧壁的外侧的所述收纳部,并且所述收纳开口部被所述封闭罩封闭。
地址 日本东京都