一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置

摘要

本发明公开了一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法，包括步骤：制备纳米材料混合液或纳米材料溶液；制造载气流场；形成纳米材料雾化液滴；载气流场带动纳米材料雾化液滴竖直向上地喷射到基片表面。本发明还公开了一种基片强适应性纳米材料均匀化成膜装置，包括液体样品容器、超声雾化器、向上气流发生器、系统状态控制器。本发明能够通过制造均匀的载气流场，实现均匀的雾化液滴流，极大地提高了基片表面雾化液滴的覆盖均匀性，从而提高纳米材料的成膜均匀性，更好地实现了对成膜厚度的控制。此外，本发明所述方案对操作环境、基片类型、纳米材料的类型等因素具有很好的适应性。

主权项

一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法，其特征在于，包括以下步骤：1)制备纳米材料混合液或纳米材料溶液；2)在步骤1)中所得的纳米材料混合液或纳米材料溶液上方的气体中，利用向上气流发生器制造载气流场；3)雾化步骤1)所得的纳米材料混合液或纳米材料溶液，利用超声雾化器形成纳米材料雾化液滴；4)步骤2)所述的载气流场带动步骤3)形成的所述纳米材料雾化液滴竖直向上地喷射到基片表面；所述步骤2)的制造载气流场和所述步骤3)的形成雾化液滴是两个独立的过程，所述步骤2)和所述步骤3)的过程参数可以分别控制。